琉璃

　　1、拋光必須在清潔無塵的室內進行。軸承因為硬塵粒會汙染研磨材料，損害已接近完成的模具表面。

　　2、每個拋光工具只使用一個級別的拋光鑽石膏，並存放在防塵或密封的容器內。

　　3、當要轉換更細一級的砂號時，要注意該級砂號是否完全覆蓋上一級(較粗)砂紋，必須清洗雙手和工件。

　　4、開始拋光時要先處理角落、培林邊角和圓角等較難拋光的地方。

　　5、處理尖角及邊角時應特別小心，注意不要形成圓角或圓邊，應盡量采用較硬的拋光工具進行模具的研磨和油石打磨。

　　拋光機由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。同時也要使拋光損傷層不會影響終極觀察到的組織，即不會造成假組織。同時還應使試樣自轉並沿轉盤半徑方向往返移動，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。電念頭固定在底座上，固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電念頭軸相連。為了達到粗拋的目的，軸承要求轉盤轉速較低，最好不要超過500r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些，由於還要去掉變形層。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上，電念頭通過底座上的開關接通電源起動後，便可用手對試樣施加壓力在滾動的拋光盤長進行拋光。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不外也應當盡可能小;其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產生的表層損傷，使超聲波模具拋光機拋光損傷減到最小。

　　拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機器不使用時落在拋光織物上而影響使用效果。解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。

　　拋光機操縱的樞紐是要想法得到最大的拋光速率，以便盡快除去磨光時產生的損傷層。精拋時轉盤速度可適當進步，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。